• 技术详细介绍
    　　针对极紫外光刻机物镜的温管和温控技术难题，设计和开发了针对极紫外光刻机的具有自主知识产权的超精密温控装置，目前已应用在半导体制造业及光刻机生产厂商、高档数控行业和民用航天上，涉及企事业单位共30余家。研制了不同控温精度和控温功率的系列产品，采用主动温度控制方法，解决了单点温度控制稳定性和多通道温度控制均匀性的问题；设计了具有功能模块化的温控层次结构，解决了超精密温控中系统内外的扰动和时滞问题，控温速度快；研制了大功率串联半导体制冷模块，结合模糊PID控制算法，提高了收敛速度、控制精度和抗扰动能力。项目整体技术达到国内领先，其中控温精度（±0.01℃）和时间指标（≦1小时）达到国际先进水平。