• 技术详细介绍
    　　一种在树脂镜片上沉积碳膜的方法,采用等离子体化学气相沉积方法在树脂镜片上沉积碳膜,利用高频电场所提供的高能量等离子体与通入的烃类气体产生裂解及淀积反应,在镜片表面形成碳膜,工艺过程为:用超声波清洗机对树脂基片进行清洗;再进行等离子清洗工艺,以Ar离子对基片清洗5min;通烃类碳源气体和氢气,进行碳膜的沉积,射频能量取值15～400W;烃类碳源气体、H2气体浓度比为1∶(0～3),沉积时真空度10～50Pa;沉积时间为10s～30min。所制备的碳膜均匀、致密,没有大颗粒的附着,没有开裂的现象,膜基结合良好,镜片表面硬度及抗划擦性能显著增强。