• 技术详细介绍
    本发明公开一种六价铬吸附还原材料的制备方法，具体包括以下步骤：将一定摩尔比的硅源、碱源、矿化剂、结构导向剂、杂原子金属盐和介观模板剂进行混合研磨至均匀，然后去氧密封，在140‑180℃进行晶化反应，产物经洗涤、过滤、酸处理后烘干，即得六价铬吸附还原材料；本发明使用矿化剂，将低价态过渡金属杂原子引入到材料中，利用低价态过渡金属的还原性和结构导向剂中胺基的作用将六价铬还原成低价，降低其毒性；另一方面利用材料的孔结构将部分未被还原的六价铬和还原后的铬吸附沉淀在孔道内，从而达到去除铬的目的。