• 技术详细介绍
    应用领域：科学研究、工业应用 　　1、纳米压印 　　2、基因芯片基片复制 　　3、光栅复制 　　4、光导板加工 　　5、其他微结构加工 　　性能指标： 　　压印输出精度：>30nm 　　单元面积：50mmx50mm 　　阵列幅面：640mm x 800mm 　　创新内容： 　　采用相关技术，在聚合物表面进行快速纳米压印光刻，最小结构：>30纳米，速度快1s/单次压印，可快速更换压印头。在软件的控制下，进行多图形组合压印光刻方式，形成阵列图形。 　　具有国际先进水平，功能最强、已投入工业化应用。 　　应用前景： 　　精密电路掩模、精密纳米结构，精密光导器件、显示器件衍射光学列阵器件。