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[00018112]一种按摩足浴盆
联系人： 武汉大学
所在地：湖北 武汉市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本实用新型提供一种按摩足浴盆，包括横向设置在壳体内的多孔隔板，隔板上方为按摩池，下方为蓄水池，按摩池与蓄水池通过隔板上的孔连通；隔板下端设有连通到蓄水池的若干喷水装置，喷水装置正对隔板上的孔，将蓄水池内的水从孔喷出，又通过隔板上的孔回流到蓄水池内。电路部分包括电连接到控制器的变频控制器、加热装置、温度传感器、水位传感器、臭氧发生器、压力传感器到。本实用新型利用具有一定压力的水柱冲压足部穴位，通过变频器控制水柱的压力和频率，实现按按摩力度的可调节，按摩部位更精准，通过控制器可监测水位、水温、控制恒温加热、控制喷水力度，控制臭氧浓度。
