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[00022008]WAlN硬质纳米结构薄膜及制备方法

交易价格: 面议

所属行业: 化工生产

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201410211117.4

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 江苏科技大学

所在地:江苏 镇江市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

本文发明公开了一种WAlN硬质纳米结构薄膜及其制备方法,其特征在于是该薄膜厚度1-3um,含有W、Al、N元素,其中W含量为60at.%-100at.%且不等于100at.%,Al含量为0at.%-40at.%且不等于0,N元素以CrN过渡层的形式存在。是以高纯W靶和Al靶为靶材,采用双靶共焦射频反应法在硬质合金或陶瓷基体上沉积获得,沉积时,真空度优于3.0×10-3Pa,以氩气起弧,氮气为反应气体,氩氮流量比10:(6-15),溅射气压0.3Pa。该方法生产效率高,所得薄膜兼具高硬度和优异的摩擦性能,可作为高速、干式切削的纳米结构硬质薄膜。

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