[00030755]一种新型高分子基多层形状记忆材料的制备方法
交易价格:
面议
所属行业:
高分子材料
类型:
发明专利
技术成熟度:
正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201610801408.8
交易方式:
完全转让
许可转让
技术入股
联系人:
四川大学
所在地:四川 成都市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要:本发明公开了一种新型高分子基多层形状记忆材料的制备方法,该制备方法制得的多层形状记忆材料由高分子基固定相层和高分子基可逆相层构成,并形成两相交替的多层双连续结构。其中,高分子基固定相层材料为室温条件下具有橡胶弹性的聚合物,高分子基可逆相层材料为升温过程中存在明显熔融转变或玻璃化转变的聚合物。该多层材料在熔点或玻璃化温度以上变形后降至室温得到临时形状,再次升温至熔点或玻璃化温度以上,整个材料回复至初始形状。本发明提供的制备方法所制得的高分子基多层形状记忆材料的层数、层厚和层结构均可控,原料配方可调;形状记忆性能优良;所需原料均为市售,生产成本低;制备方法简单,生产效率高且可以连续批量生产。