[00035224]一种百纳米尺度超细光针场聚焦设计方法

交易价格： 面议

所属行业： 光学仪器

类型： 发明专利

技术成熟度： 正在研发

专利所属地：中国

专利号：CN201610015338.3

交易方式： 完全转让许可转让技术入股

联系人：西安交通大学

所在地：陕西西安市

服务承诺: 产权明晰; 资料保密
对所交付的所有资料进行保密; 如实描述

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技术详细介绍

　　本发明公开了一种百纳米尺度超细光针场聚焦设计方法

　　属于纳米光子学聚焦及微加工技术领域，包括四个步骤：第一、利用矢量角谱理论来积分描述矢量偏振光束照明微结构金属膜环带片时其后光场的衍射传播行为；第二、利用等价数值孔径NAeq和归一化中心遮挡因子ε约束聚焦光束横向尺度，而在轴向引入超高斯函数约束形成超细光针场，由此建立非线性约束优化模型；第三、利用配置的遗传算法和快速汉克尔变换算法编程求解上述优化模型；第四、设置优化初始参数，包括结构参数和算法参数，多次执行优化算法，优选微结构金属膜环带片。以本发明纳米为基础灵活设计不同偏振光束照明、多种尺度微结构金属膜环带片，可应用于实现微纳光刻、纳米打印、超分辨显微成像等。

[00035224]一种百纳米尺度超细光针场聚焦设计方法

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