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[00036177]一种双槽电解制备纳米晶/非晶金属多层薄膜增塑的方法

交易价格: 面议

所属行业: 专用化学

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201610423847.X

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 西安交通大学

所在地:陕西 西安市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

本发明公开了一种双镀槽电解制备纳米晶/非晶金属多层薄膜增塑的方法。通过双槽法制备技术,在两电镀液中交替沉积出了结构完整的纳米晶/非晶多层膜,该薄膜层结构明晰,且调至尺寸可控。相比于同等厚度的纯纳米晶Ni膜,多层薄膜在断前能承担更大的断裂应力且具有更大的塑性变形量。本发明充分结合了纳米晶金属和非晶态金属的塑性变形特点,利用双槽法电镀制备出纳米晶/非晶多层结构薄膜,实现了对纯纳米晶金属薄膜塑性变形能力的提高。并且调制尺寸可调,力学性能可控。制备方法操作简单,成本低,而且沉积速率快,可在大面积和较复杂的零件上沉积,极易实现工业生产上的规模化。

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