[00036177]一种双槽电解制备纳米晶/非晶金属多层薄膜增塑的方法
交易价格:
面议
所属行业:
专用化学
类型:
发明专利
技术成熟度:
正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201610423847.X
交易方式:
完全转让
许可转让
技术入股
联系人:
西安交通大学
所在地:陕西 西安市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明公开了一种双镀槽电解制备纳米晶/非晶金属多层薄膜增塑的方法。通过双槽法制备技术,在两电镀液中交替沉积出了结构完整的纳米晶/非晶多层膜,该薄膜层结构明晰,且调至尺寸可控。相比于同等厚度的纯纳米晶Ni膜,多层薄膜在断前能承担更大的断裂应力且具有更大的塑性变形量。本发明充分结合了纳米晶金属和非晶态金属的塑性变形特点,利用双槽法电镀制备出纳米晶/非晶多层结构薄膜,实现了对纯纳米晶金属薄膜塑性变形能力的提高。并且调制尺寸可调,力学性能可控。制备方法操作简单,成本低,而且沉积速率快,可在大面积和较复杂的零件上沉积,极易实现工业生产上的规模化。