[00036229]一种ECR等离子体溅射装置的腔体结构
交易价格:
面议
所属行业:
化工生产
类型:
发明专利
技术成熟度:
正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN200910021522.9
交易方式:
完全转让
许可转让
技术入股
联系人:
西安交通大学
所在地:陕西 西安市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明涉及电子回旋共振(ECR)等离子体溅射装置,公开了一种能够方便转换粒子源的ECR等离子体溅射装置的腔体结构。它包括:左真空腔(1)、右真空腔(2)和至少两个靶材腔(3、4),靶材腔(3、4)连接在左真空腔、右真空腔(1、2)之间,靶材腔内(3、4)设置有靶材,其特征在于,相邻靶材腔(3、4)之间设置有垫圈(5),垫圈(5)的径向设置有传动杆(17),传动杆(17)的内端设置有齿轮(18);相邻的靶材腔(3、4)内设置有一个滑动的挡圈(15),挡圈(15)的外壁的轴向镶嵌有齿条(16),齿条(16)与所述齿轮(18)啮合;所述垫圈(5)和传动杆(17)之间设置有动密封装置。