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[00038258]一种低共熔溶剂电沉积铬锰合金镀层的方法

交易价格: 面议

所属行业: 控制系统

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201610975321.2

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 昆明理工大学

所在地:云南 昆明市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

本发明涉及一种低共熔溶剂电沉积铬锰合金镀层的方法,属于表面工程和表面处理技术领域。在惰气环境下,首先将季铵盐与多元醇混合均匀后形成低共熔溶剂,然后向低共熔溶剂中加入三氧化二铬和一氧化锰,制备得到低共熔溶剂电解液;以石墨为阳极,预处理后的基体为阴极,在控制电解液温度为35~75℃、槽电压为1.8~2.8V、阳极与阴极距离为0.6~2.4cm的条件下,在制备得到的低共熔溶剂电解液中电沉积0.5~5h,将电积后的阴极基体经丙酮、蒸馏水冲洗,干燥后即能在阴极基体上得到铬锰合金镀层。采用该方法可制备得到的铬锰合金镀层光亮致密平整,与基体结合能力强,耐磨性及耐腐蚀性优异,避免了六价铬及镀液的危害,环境友好。

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