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[00038634]一种低共熔溶剂电沉积亮铬镀层的方法

交易价格: 面议

所属行业: 其他化学化工

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201610267769.9

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 昆明理工大学

所在地:云南 昆明市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

本发明涉及一种低共熔溶剂电沉积亮铬镀层的方法,涉及表面工程和表面处理技术。在惰气环境下,首先在电解槽中加入低共熔溶剂,然后向低共熔溶剂中加入氧化铬,制备得到低共熔溶剂电解液;以石墨为阳极,预处理后的基体为阴极,在上述步骤制备得到的低共熔溶剂电解液中电沉积,将电积后的基体经丙酮、蒸馏水冲洗,干燥后即可在基体上得到一层亮铬镀层。本发明制得的亮铬镀层光亮致密平整,与基体结合能力强,耐磨性及耐腐蚀性优异。

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