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[00039858]基于复合介质栅MOSFET光敏探测器的多功能曝光成像方法

交易价格: 面议

所属行业: 其他电气自动化

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201110417263.9

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 南京大学

所在地:江苏 南京市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

基于复合介质栅MOSFET光敏探测器的多功能曝光成像方法,曝光成像的步骤是:在衬底加一负偏压脉冲Vb,源极或漏极的一端加一正向电压脉冲Vp且另一端浮空、或源极漏极同时加一电压压脉冲Vp,源极和漏极加上了一个大于衬底偏压的偏压脉冲,同时控制栅要加零偏压或加正向偏压脉冲Vg,衬底和源漏区会产生耗尽层;Vg数值范围0~20v,Vb数值范围-20~0v,Vp数值范围0~10V;通过调节电压可以探测器收集光电子从而使器件可以曝光成像,具有低压操作,无暗电流干扰,成像准确,弱光探测,成像速度快等特点。

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