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[00041091]化学气相淀积材料生长设备的反应源进气分配方法与装置

交易价格: 面议

所属行业: 化工生产

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN200910030912.2

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 南京大学

所在地:江苏 南京市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

CVD材料生长设备的反应源进气分配的方法,让分解温度相差较大的反应气源经各自的输运通道单独地进入反应腔体,并对分解温度较高的源气体进行加热预分解后再让其与分解温度较低的反应源气体充分混合后,在合适的温度下进行反应以外延生长薄膜材料。对于分解温度较高的反应源气体,在输运至石墨反应腔进气端前需对其进行加热而使其预分解,这个过程是通过在导引气体的细石英管周围配置石墨管感应件、经射频加热的方法来实现的。

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