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[00041104]一种用于提高蒸发束流稳定性的坩埚和具有该坩埚的源炉

交易价格: 面议

所属行业: 化工生产

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201710201152.1

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 南京大学

所在地:江苏 南京市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

本发明的一种用于提高蒸发束流稳定性的坩埚和具有该坩埚的源炉,属于薄膜生长技术领域。其中本发明的一种用于提高蒸发束流稳定性的坩埚,坩埚设置为直筒形,且坩埚顶部外壁与坩埚底部外壁等径,用于减少坩埚顶部的热辐射;坩埚顶部设置有定位垫片,定位垫片用于固定坩埚顶部。本发明的一种提高蒸发束流稳定性的源炉,包括坩埚、蒸发源和加热单元,坩埚设置于蒸发源内,坩埚的外部设置有加热单元,该加热单元用于对坩埚进行加热,坩埚为上述的坩埚。本发明减小束流挡板开启或者关闭对坩埚温度的影响,提高坩埚温度的稳定性及束流的稳定性,减小热辐射的量以降低坩埚温度的波动,更加稳定控制束流以制备更高质量的薄膜。

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