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[00051236]一种制作凸面双闪耀光栅的方法

交易价格: 面议

所属行业: 光学仪器

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201010126045.5

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 苏州大学

所在地:江苏 苏州市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

摘要:本发明公开了一种制作凸面双闪耀光栅的方法,其特征在于,包括下列步骤:(1)在光栅基片上涂布光刻胶;(2)进行第一次干涉光刻,制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模;(3)对于A光栅区的光栅掩模,通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀,形成三角形的闪耀光栅槽形;清洗基片;(4)重新涂布光刻胶;(5)将B光栅区进行遮挡,利用已制备完成的A光栅区进行莫尔条纹对准,然后去除遮挡,进行第二次干涉光刻,制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模;(6)通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀,将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形;(7)清洗基片,得到凸面双闪耀光栅。本发明实现了凸面双闪耀光栅的制作,能够精确地分别控制两个闪耀角。

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