[00051270]测量光学非线性的4f相位相干成像方法
交易价格:
面议
所属行业:
检测仪器
类型:
发明专利
技术成熟度:
正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN200810123176.0
交易方式:
完全转让
许可转让
技术入股
联系人:
苏州大学
所在地:江苏 苏州市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要:本发明公开了一种能测量介质界面光学非线性以及应用反射光测量薄膜光学非线性的方法,属于非线性光子学材料和非线性光学信息处理领域。入射激光通过分束镜分成两路,一路为探测光进入测量光路,通过4f相位相干成像系统后由CCD相机采集;另一路为参考光;其特征在于:所述样品以反射方式放置于测量光路的第一凸透镜的焦平面处,沿反射光传播方向在一倍焦距处放置与第一凸透镜相同焦距的第二凸透镜,由此构成反射4f相位相干成像系统;其测量分能量校准和光学非线性测量两部分进行。本发明具有测量方便、光路简单、没有样品的移动、单脉冲测量、不易损伤介质的表面、对光源能量稳定性以及空间的稳定性要求不高等优点。