[00055911]磁控溅射设备
交易价格:
面议
所属行业:
化工生产
类型:
实用新型专利
技术成熟度:
正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201220261265.3
交易方式:
完全转让
许可转让
技术入股
联系人:
中国科学院深圳先进技术研究院
所在地:广东 深圳市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
一种磁控溅射设备,包括壳体、靶材、炉盘及多个挡板;所述壳体开设有反应腔;所述靶材收容于反应腔内并固定于所述壳体的内壁上;所述炉盘收容于反应腔内,所述炉盘固定于所述壳体的内壁并与所述靶材相对;所述多个挡板设置于所述壳体的内壁上,分布于所述炉盘的周围。上述磁控溅射设备中,其反应腔内壁上设有挡板。挡板用来阻挡射向反应腔内壁的溅射粒子,并对溅射粒子进行沉积,防止其形成碎渣并掉落,影响反应腔内制备的薄膜的质量。