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一种超支化聚酯微光学光刻胶,由超支化碱溶性感光聚合物,活性稀释剂、交联剂、光引发剂以及助剂等组成,超支化聚酯微光学光刻胶其感光性能、刻蚀性能、线性范围等可通过超支化聚合物结构、超支化聚合物分子末端的官能团及光刻胶配方进行调节。本发明的光刻胶配制容易、理化性能可调性大,可用水性显影剂显影,因而使用中对环境影响小,同时光刻胶感光度、图像清晰度高,刻蚀深度大,并有独特的线性刻蚀性能。尤其适合微光学元件的光刻加工。
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