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[00064801]超低压气氛下的高能高速等离子射流沉积SiC涂层及其制备方法和应用

交易价格: 面议

所属行业: 通用零部件

类型: 发明专利

技术成熟度: 通过中试

专利所属地:中国

专利号:CN106637037A

交易方式: 完全转让

联系人: 苏海彬

所在地:陕西 西安市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

本发明公开了一种超低气氛下的高能高速等离子射流沉积SiC涂层及其制备方法和应用,属于材料加工、机械制造领域。该方法以SiC陶瓷粉末为原料,用高能等离子将其快速加热至分解温度以上使其分解后,在超低压气氛中又通过气相在基体表面沉积形成SiC的涂层制备方法。该方法可快速气相沉积致密的SiC涂层,以价格低廉的SiC粉体为沉积源物质,沉积源物质来源便利,低成本。本发明为优越耐磨损、耐腐蚀、抗核辐射涂层,或导电涂层制备,提供了一种超低气氛下的高能高速等离子射流沉积SiC与SiC基涂层的制备方法。

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