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[00067268]二维有序六方紧密堆积结构SiO2膜的制备方法

交易价格: 面议

所属行业: 纳米及超细材料

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201210239163.6

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 哈尔滨工业大学

所在地:黑龙江 哈尔滨市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述
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技术详细介绍

摘要:二维有序六方紧密堆积结构SiO2膜的制备方法,它涉及一种SiO2膜的制备方法。本发明为了解决现有制备具有六方紧密堆积结构的SiO2胶体晶体的方法可重复性低,膜层不可控,成本高,面积小的技术问题。本方法如下:一、制备SiO2颗粒分散液;二、玻璃基片的清洗;三、氨基化处理载玻片;四、十六烷基三甲基溴化铵改性纳米SiO2;五、铺展液的配制:六、将氨基化处理的载玻片与铺展液放入系统中,在氨基化处理的载玻片表面上得到SiO2膜,将SiO2膜干燥,烧结,即得。本发明制备的二维有序六方紧密堆积结构SiO2膜,具有面积大,有序度高,粒子粒径小的优点,并且膜层高度可控,重复性高,价格低廉。

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