
联系人: 武汉科技大学
所在地:湖北 武汉市
技术投资分析:
一、项目简介:
随着某些高温窑炉操作条件的不断强化,高铬材料的应用在某些方面的应用显得必不可少。如用于化工行业水煤浆气化炉中的铬锆铝砖和用于玻璃池窑的致密氧化铬砖,国内使用目前主要依赖进口,因为国产同类材料性能与进口材料相比尚有一定差距,且由于生产工艺中存在的问题使废品率很高,造成生产成本较高而难以满足工业生产需要。
本项目采用复合覆盖剂埋层还原气氛烧成工艺进行高铬原料的合成。该工艺不仅使原料合成温度由1700℃以上降低到1550℃左右,而且解决了由于制品内部开裂造成的废品率高的问题。同时由该合成料制备的试样具有较好的热震稳定性和抗渣蚀性。
2005年取得国家发明专利(专利号:ZL01128362.9)。
二、技术指标:
研制的合成高铬原料主要技术指标:相对体积密度可达97%以上。
技术的应用领域前景分析:
随着应用范围的扩大,效用辐射面扩大,必定产生良好经济效益。可应用于高温窑炉操作,市场前景良好。
效益分析:
仅以目前国内市场对玻璃池窑用致密氧化铬砖的需量206.28吨/年估测,该氧化铬砖的进口价格约为30万元/吨,国产品售价约低于15万元/吨,但目前国内尚无厂家工业化生产。仅此一项,即可节约资金3000万元/年以上。因此,本项目具有较好的效益。
厂房条件建议:
无
备注:
无
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