针对微纳加工的电纺射流快速稳定控制装置及其控制方法

技术简介： 本发明是一种针对微纳加工的电纺射流快速稳定控制装置及其控制方法。控制装置包括有精密注射泵（1）、X-Y-Z三轴运动平台（10）、绕Y轴转动平台的固定支架（9）、绕Y轴转动平台（8）、绕X轴转动…… 查看详细 >

一种简单控制相变制备β‑氮化硅晶须的方法

技术简介： 本发明涉及一种制备β‑氮化硅晶须的方法，由α相的氮化硅粉体在气氛炉中充入氮气高温下通过控制氮化硅相变(α→β)烧结制备β‑氮化硅晶须。原始的α相氮化硅粉体在烧结炉的氮气气氛中升温至15…… 查看详细 >

一种填孔用可溶性阳极电镀铜溶液

技术简介： 本发明公开了一种填孔用可溶性阳极电镀铜溶液，特别适用于PCB可溶性阳极电镀铜填孔过程，属于PCB电镀技术领域。在镀铜阳极为可溶性阳极时，通过在含有硫酸、硫酸铜、氯离子、加速剂、抑制剂、整…… 查看详细 >

一种碳纳米管镀银丙烯酸系电磁屏蔽涂料的制备方法

技术简介： 本发明公开了一种碳纳米管镀银丙烯酸系电磁屏蔽涂料的制备方法，本发明采用化学镀的方法，首先在CNTs表面镀上一层镍，再进行化学镀银，从而获得以大长径比的CNTs为核，以均匀银镀层为壳的镀银CN…… 查看详细 >

一种电泳辅助微纳颗粒熔融自组装表面改性设备

技术简介： 本发明公开了一种电泳辅助微纳颗粒熔融自组装表面改性设备，包括工作台、颗粒溶液混合循环容器、加工槽、输液装置、电泳辅助装置、真空加热装置和集成控制柜。使熔点较低的牺牲颗粒处于熔融状态…… 查看详细 >

一种高粘度胶液喷射点胶质量提升点胶装置

技术简介： 本实用新型公开一种点胶装置，包括通过驱动装置带动往复运动的阀杆，阀杆伸入阀体内、并通过阀体限位滑动；阀体的端部可拆卸设置阀座，阀座开设用于喷射胶液喷射嘴，阀体的侧壁上设置通过供胶装…… 查看详细 >

一种TiB2/AlTiN复合涂层及其制备方法与应用

技术简介： 本发明公开了一种TiB2/AlTiN复合涂层，所述TiB2/AlTiN复合涂层是以TiB2陶瓷靶和AlTi溅射靶为原料，通过多靶磁控溅射在基体上交替溅射沉积形成多层结构的TiB2/AlTiN复合涂层。所述TiB2/AlTiN复合…… 查看详细 >

一种工件局部表面改性的制备装置

技术简介： 本发明公开了一种工件局部表面改性的制备装置，包括用于向工件提供纳米颗粒溶液的颗粒溶液供给装置；电泳系统，电泳系统用于提供电泳作用以辅助纳米颗粒溶液中的颗粒沉积到工件表面；用于覆盖工…… 查看详细 >

一种具有纳米层状结构的二硼化钛/钨涂层及其制备方法

技术简介： 本发明公开了一种具有纳米层状结构的二硼化钛/钨涂层及其制备方法，所述TiB2/W涂层是以TiB2陶瓷靶和喷涂W靶为原料，通过多靶磁控溅射在基体上交替溅射沉积形成由TiB2陶瓷层与金属W层相互叠加的…… 查看详细 >

一种用于制备多维光催化材料的阳极氧化装置

技术简介： 本实用新型是一种用于制备多维光催化材料的阳极氧化装置。包括有直流电源（1）、两块阴极（2）、阳极（3）、阳极氧化液（4）、阳极氧化槽（5），其中阳极氧化槽（5）中装设有阳极氧化液（4），…… 查看详细 >

一种高功率脉冲等离子体增强复合磁控溅射沉积装置及其使用方法

技术简介： 本发明涉及薄膜材料技术领域，尤其涉及一种高功率脉冲等离子体增强复合磁控溅射沉积装置，包括真空室、磁控靶、工件架和旋转支座，磁控靶包括高功率脉冲磁控溅射靶和脉冲直流磁控靶，固定在真空…… 查看详细 >

一种硝酸型废退锡液的资源回收方法

技术简介： 本发明公开了一种硝酸型废退锡液的资源回收方法，本方法不需要调节废退锡液的pH值，将硝酸型废退锡液在70～90℃温度条件下加热预处理12～24h，加热预处理后，每升废退锡液中加入1.5～5g的聚丙烯…… 查看详细 >