一种高交联大孔/介孔固体酸催化剂的制备方法

技术简介： 本发明公开了一种高交联大孔/介孔固体酸催化剂的制备方法，首先，合成疏水性的二氧化硅颗粒；然后将疏水性二氧化硅颗粒、二乙烯基苯(DVB)、司班80(span80)和偶氮二异丁腈(AIBN)按一定比例混合形…… 查看详细 >

一种具有高温导电性能的复合氧化物涂层及其制备方法

技术简介： 本发明公开了一种具有高温导电性能的复合氧化物涂层及其制备方法，所述涂层是在金属基体表面沉积厚度为5～15μm的Co-(35～45)Mn合金涂层，步骤是在预先经过表面处理的金属基体表面上采用高能微…… 查看详细 >

TiWAlN硬质薄膜及制备方法

技术简介： 本文发明公开了一种TiWAlN硬质薄膜及其制备方法，是以高纯Ti靶、W靶、Al靶为靶材，采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上的，薄膜分子式表示为Ti(W，Al，N)，厚度在1‑3μm；沉…… 查看详细 >

Zr－Si－N硬质复合涂层及其制备方法

技术简介： 本发明涉及一种陶瓷材料技术领域的高硬度Zr－Si－N复合涂层及其制备方法。本发明在氩、氮混合气氛中采用高纯Zr靶和Si靶共焦溅射，沉积在金属、硬质合金或陶瓷的基体表面沉积得到，Zr－Si－N层的…… 查看详细 >

一种高热稳定性无扩散阻挡层Cu(Ru)合金材料的制备方法

技术简介： 本发明涉及高热稳定性无扩散阻挡层Cu(Ru)合金材料的制备方法，其特征在于是以单晶Si(111)片作为衬底材料，选用高纯Cu靶和Ru靶，固定Cu靶功率为80±10W，在(3-15)±1W范围内改变Ru靶的溅射功率进而…… 查看详细 >

一种采用溅射法制备五层柔性无胶双面覆铜箔的方法

技术简介： 本发明公开了一种采用溅射法制备五层柔性无胶双面覆铜箔的方法，首先准备热固性聚酰亚胺薄膜，采用去离子水清洗，干燥后采用电晕或等离子处理；然后将处理后的薄膜放入磁控溅射镀膜室，分两次镀…… 查看详细 >

一种采用溅射法制备柔性无胶双面覆铜箔的方法

技术简介： 本发明公开了一种采用溅射法制备柔性无胶双面覆铜箔的方法，首先准备聚酰亚胺薄膜，采用去离子水清洗，干燥后采用电晕或等离子处理；然后将处理后的薄膜放入磁控溅射镀膜室，抽真空后充入氩气，…… 查看详细 >

WAlN硬质纳米结构薄膜及制备方法

技术简介： 本文发明公开了一种WAlN硬质纳米结构薄膜及其制备方法，其特征在于是该薄膜厚度1-3um，含有W、Al、N元素，其中W含量为60at.％-100at.％且不等于100at.％，Al含量为0at.％-40at.％且不等于0，N元…… 查看详细 >

TaN-Ag硬质薄膜及制备方法

技术简介： 本发明公开了一种TaN-Ag硬质薄膜及其制备方法，TaN-Ag硬质薄膜是以高纯Ta靶和Ag靶为靶材，采用多靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上得到的，薄膜分子式为TaN-Ag，厚度在1-3μm；沉…… 查看详细 >

一种在钼基片上沉积的钌薄膜及其制备方法

技术简介： 一种在钼基片上沉积的钌薄膜及其制备方法，采用磁控溅射法在Mo衬底上制备了Ru薄膜，利用真空退火炉、EDS、XRD，台阶仪及纳米划痕仪等设备研究了不同退火温度对Ru薄膜化学成分、相结构、残余应力…… 查看详细 >

一种硬质薄膜及制备方法

技术简介： 本文发明公开了一种硬质薄膜及其制备方法，该薄膜是以纯W靶、纯Cu靶和纯Cr靶为靶材，利用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上，薄膜分子式为W2N-Cu，其中W含量为85at.％-100at.％…… 查看详细 >

一种一体式可旋转气相沉积基片加热装置

技术简介： 本实用新型公开了一种一体式可旋转气相沉积基片加热装置，包括电机、与电机连接的磁耦合转轴，所述磁耦合转轴固定在法兰盲板上，磁耦合转轴转动带动同轴连接的齿轮转动，齿轮与旋转轴啮合，从而…… 查看详细 >