一种具有插拔喷头的透射电镜原位气氛样品台

技术简介： 本实用新型涉及一种插拔喷头的透射电镜原位气氛样品台。该样品台包括样品台(杆)、与外部气体源相连的原位气氛管路，原位气氛管路端头的气氛喷头、及样品载网，所述气氛喷头为可插拔形式，在气氛…… 查看详细 >

一种用于矿物相自动识别分析的样品台

技术简介： 本实用新型提供了一种用于矿物相自动识别分析的样品台，样品台底座形状与扫描电镜样品室内样品槽的形状匹配，样品台中间开有样品托，样品托中安装有可拆卸的卡槽，卡槽中安装有两组移动挡板；样…… 查看详细 >

铌酸锂/Ⅲ族氮化物异质结铁电半导体薄膜制备方法及应用

技术简介： LiNbO3/III族氮化物异质结铁电半导体薄膜制备方法，采用金属有机物化学气相淀积方法在(0001)面蓝宝石衬底上先生长AlN/AlGaN等异质结构材料作为缓冲层或复合衬底；然后在此缓冲层采用高纯5N的铁…… 查看详细 >

CdTe薄膜上生长CdS薄膜或CdS纳米结构的方法

技术简介： 本发明涉及一种CdTe薄膜上生长CdS薄膜或CdS纳米结构的方法，包括如下步骤：1）将CdTe薄膜装入石英管中，放入烧结炉，然后排除石英管内的多余气体；（2）接着通入含硫化氢气体的混合气体，升温烧…… 查看详细 >

一种制备新型微纳米复合结构图案化蓝宝石衬底的方法

技术简介： 本发明公开了一种制备新型微纳米复合结构图案化蓝宝石衬底的方法，具体步骤包括：a)通过光刻和刻蚀工艺制备出具有高曲率和高深宽比的圆锥形微米图案化蓝宝石衬底；b)在微米图案化蓝宝石衬底上蒸…… 查看详细 >

一种制备珠串形单晶硅纳米线的方法

技术简介： 本发明公开了一种制备平面珠串形单晶硅纳米线的方法，1)在平整的衬底上，在定位区域蒸镀In、Sn或Bi诱导金属膜，即为纳米线生长的初始位置；2)将上述衬底放入PECVD系统腔内，在温度200℃-500℃，…… 查看详细 >

利用硼磷共掺提高纳米硅材料中的磷掺杂浓度的方法

技术简介： 利用硼磷共掺技术提高纳米硅基薄膜中磷的掺杂浓度效率的方法，步骤如下1)利用PECVD制备掺杂纳米硅/二氧化硅多层膜材料；2)通过交替进行非晶硅层沉积/原位氧化两个过程，能够获得掺杂纳米硅/二氧…… 查看详细 >

一种GaN纳米结构阵列生长方法

技术简介： 一种制备GaN纳米结构阵列的方法，利用CVD设备和石墨烯插入层及低温GaN缓冲层升华法生长GaN纳米结构阵列；衬底采用蓝宝石、硅或石英玻璃、GaN/蓝宝石(硅)，衬底清洗后，先覆盖单层或多层石墨烯薄…… 查看详细 >

Al2O3薄膜钝化硅基纳米线的方法及器件

技术简介： 本发明公开一种利用Al2O3薄膜钝化硅基纳米线的方法，在硅纳米线结构表面形成一层Al2O3薄膜以包覆硅基纳米线，Al2O3薄膜层用于钝化纳米线表面缺陷，其厚度控制在硅基中的载流子能够穿透的范围内…… 查看详细 >

一种高锗含量锗硅薄膜的低温外延制备方法

技术简介： 本发明公开了一种高锗含量锗硅薄膜的低温外延制备方法，具体步骤包括(1)提供(100)晶面的硅衬底；(2)在1350℃的高温下对硅衬底进行去氧化处理，去氧化时间为10分钟；(3)通过分子束外延的方法，在…… 查看详细 >

InN材料作衬底或缓冲层制备InN/锗或InN/硅薄膜及制备方法

技术简介： InN材料作衬底或缓冲层制备InN/锗或InN/硅薄膜，InN材料作衬底或缓冲层，并在上面制备InN/锗或InN/硅薄膜，InN材料缓冲层的厚度为100纳米以上，在其上制备单层或n层锗或硅薄膜，每层锗或硅薄膜…… 查看详细 >

大尺寸非极性面GaN自支撑衬底制备方法

技术简介： 大尺寸非极性面GaN自支撑衬底制备方法，在HVPE生长系统中将铝酸锂衬底放入反应器中后，先生长缓冲层。温度为500－800℃，然后升温至生长温度开始生长GaN，生长温度1000－1100℃。生长至合适的厚…… 查看详细 >