
技术简介: 本发明提供了一种互连工艺,包括将互连材料印刷至基板上,静置,再将芯片盖于所述互连材料表面,于100~200℃下烧结,得到互连器件;所述互连材料包括咪唑类化合物包覆纳米铜颗粒粉体和分散液;…… 查看详细 >
技术简介: 本实用新型实施例公开了一种晶圆级芯片封装对位XYθ纳米补偿装置,用于解决现有的XYθ三自由度位移补偿装置多采用3RRR并联装置而导致的行程小,所能够工作的范围小,控制复杂,需要较多的计算分…… 查看详细 >
技术简介: 本发明公开一种晶圆料盒定位装置,定位底座用于承托载料盒,板面上的按载料盒的尺寸、在不同位置贯通设置连接孔;限位块通过连接孔可拆卸固定于定位底座的上表面,载料盒的每个边缘至少对应设置…… 查看详细 >
技术简介: 本发明实施例公开了一种晶圆级芯片封装对位XYθ纳米补偿装置,用于解决现有的XYθ三自由度位移补偿装置多采用3RRR并联装置而导致的行程小,所能够工作的范围小,控制复杂,需要较多的计算分析的…… 查看详细 >
技术简介: 本申请公开的一种平台的定位系统,致动元件进行伸长时,弹簧元件受压缩短,从而使得平台向前移动;当致动元件进行缩短时,弹簧元件伸长,从而使得平台向后移动。因此,在平台振动时,致动元件输…… 查看详细 >
技术简介: 本实用新型公开一种静电吸附拾取夹具系统,包括可对微薄片进行筛选的筛选平台、可对筛选平台上的微薄片进行静电吸附并转移的静电吸附夹具、可对被静电吸附的微薄片去除静电的去静电平台。具体地…… 查看详细 >
技术简介: 本实用新型公开了一种晶圆级芯片倒装定位平台,包括用以承载晶圆、且能够进行较大幅度运动的X轴移动平台与Y轴移动平台,其特征在于,还包括用以供所述晶圆在XY平面内进行较大幅度旋转的旋转平台…… 查看详细 >
技术简介: 一种微结构刻蚀的加工装置,包括驱动装置、反应装置和操作台;驱动装置包括旋转装置和六自由度运动平台;旋转装置设于六自由度运动平台的上方;反应装置包括反应盒体、加热贴片、搅拌励磁线圈、…… 查看详细 >
技术简介: 本发明公开一种陶瓷基板定位校准装置,定位安装板呈水平设置,底面用于定位固定,其顶面设置导向斜块,每个陶瓷基板的侧边处至少对应设置一个导向斜块;导向斜块上设置呈纵向倾斜的导向面,导向…… 查看详细 >
技术简介: 本发明公开一种用于微孔加工的晶圆夹具,包括环状支撑座、进气通道、出气通道、固定件,环状支撑座中间开设悬空孔,晶圆边缘由环状支撑座支撑,当晶圆的中间正对悬空孔放置时,晶圆的中心用于刻…… 查看详细 >
技术简介: 本实用新型提供一种机器视觉飞行系统,包括基座、用于拾取芯片的拾取头、CCD相机、反射镜、半透半反射镜、基板以及导轨,基板相对基座固定设置,基座可沿导轨进行左右移动,CCD相机固定设置在基…… 查看详细 >
技术简介: 本发明公开了一种焊头定位精度检测系统,包括焊头吸嘴及控制焊头吸嘴在拾片点拾取晶片、传送晶片和在粘片点粘焊晶片的传动机构,其中,粘片点下安装有反光镜,上述焊头吸嘴中心设有一中空通孔,…… 查看详细 >
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